半導体の微細・積層化で
シビアになる温度制御に対応
高度デジタル社会実現に向けて半導体の微細化・積層化が求められており、温度が製品品質に与える影響が拡大しています。
NX-HTCは省スペース化や特徴量の見える化でシビアになる温度制御下での品質と生産性の向上に貢献します。
高度デジタル社会実現に向けて半導体の微細化・積層化が求められており、温度が製品品質に与える影響が拡大しています。
NX-HTCは省スペース化や特徴量の見える化でシビアになる温度制御下での品質と生産性の向上に貢献します。
課題
温度をより正確に制御するために温度制御点数の増加により機器が増えて、既存フットプリントの維持が困難
1ユニットで8Ch制御*1に対応。
従来品NX-TC 4Ch 2台使用する場合と比べ、幅を約40%省スペース化できます。
*1. 標準制御の場合
業界最小サイズの小型コネクタ端子台と専用ケーブルでの省配線により、盤内占有面積をさらに小さくできます。
課題
加工精度の微細化により生産品質を高めるため、温度制御の振れ幅を小さくさせる必要がある
広い温度範囲での0.01℃の高分解能により、高い温度でも高精度な温度制御に貢献します。
課題
ワーク・設備・環境の変動例
特徴量見える化機能とは、長年の温度制御サポートの知見から得たワーク、環境、設備の変動が表われやすい温度制御の指標を生産中の温度波形と操作量波形から自動的に算出し数値化する機能です。
特徴量を監視することで、ワーク、環境、設備の微細な変化を検知することができます。
温度制御時の波形を特徴量化することで、設備の状態を定量的に管理。
これによって、設備の状態がいつもと違うことを早期に発見し、不良品の削減に貢献します。
チャンバーの扉開閉による外気流入など予期可能な温度変動に対して安定的に自動制御。品質の向上や温度が安定するまでの待ち時間を短縮して生産能力の向上に貢献します。
温度変動を抑制することにより、 温度が安定するまでの待ち時間を従来比で最大80%削減します。
外乱抑制機能とは、予期可能な外乱に対しあらかじめ温度変動を抑制する制御機能です。外乱発生前に温度調節器ユニットに信号を入力することにより、 本機能が動作し操作量を加算または減算します。外乱オートチューニングにより FF(フィードフォワード)操作量、 FF動作時間とFF待ち時間を自動調整します。
商品のさらに詳しい情報、マニュアルやCADデータのダウンロードもできます。